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活性氧除臭技術原理

更新時間:2015-10-26      點擊次數:2852

活性氧除臭技術原理
活性氧技能使用高壓靜電的特多殊脈沖方電方法(活性氧發射管每秒鐘發射上千億個高能離子)協同納米光催化反響,產生大量高密度的活性氧分子、活性負離子、光電子及羥基自由基等強氧化性的活性基團,敏捷與污染物分子碰撞,激活有機分子,并直接將其粉碎;同時,氛圍中的氧分子被引發產生二次活性氧,有機分子產生一系列鏈式反響,并使用自身反響產生的能量維系氧化反響,進一步氧化有機物質,天生二氧化碳的水以及其他原子。
活性氧離子做為精良的電子受體到場光催化反響,實現活性氧氧化與納米光催化化的有用耦合,大大強化了納米光催化去除污染物的服從。該項技能是處置處罰低濃度、大流量有毒有害氣體的有用方法。
同傳統處置處罰技能相比,活性氧凈化設置除臭設備部署在占地面積、質量、能耗以及處置處罰服從方面有計多長處。

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